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真空电镀的特点:
1> 真空镀膜所获得的金属膜层很薄(一般为0.01~0.1um),能够严格复制出啤件表面的形状。
2> 工作电压不是很高(200V)﹐操作方便﹐但设备较昂贵。
3> 蒸镀锅瓶容积小﹐电镀件出数少﹐生产效率较低。
4> 只限于比钨丝熔点低的金属(如铝﹑银﹑铜﹑金等)镀饰。
5> 对镀件表面质量要求较高﹐通常电镀前需打底油来弥补工件表面缺陷。
6> 真空镀膜可以镀多种塑料如﹕ABS﹑PE﹑PP﹑PVC﹑PA﹑PC﹑PMMA等。
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真空镀是物理的，真空镀也分导电与不导电的，那么这就对有ESD，射频有要求的产品有利，这真空镀可以做到半透明。
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