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涂层的PVD技术：

增强型磁控阴极弧：阴极弧技术是在真空条件下，通过低电压和高电流将靶材离化成离子状态，从而完成薄膜材料的沉积。增强型磁控阴极弧利用电磁场的共同作用，将靶材表面的电弧加以有效的控质，使材料的离化率更高，薄膜性能更加优异。

过滤阴极弧：过滤阴极弧（FCA）配有*的电磁过滤系统，可将离子源产生等离子体中的宏观粒子，离子团过滤干净，经过磁过滤后沉积粒子的离化率为*，并且可以过滤掉大颗粒，因此制备的薄膜非常致密和平整光滑，具有抗腐蚀性能好，与机体的结合力很强。

磁控溅射：在真空环境下，通过低电压和磁场的共同作用，以被离化的惰性气体离子对靶材进行轰击，致使靶材以离子，原子或分子的形式被弹出并沉积在基材上形成薄膜。根据使用的电力电源的不同，导体和非导体材料均可作为靶材被溅射。

离子束DLC：碳氢气体在离子源中被离化成等离子体，在电磁场的作用下，离子源释放出碳离子。离子束能量通过调整在上的电压控制，碳氢离子束被引到基材上，沉积速度与离子电流密度成正比。德耐涂层的离子束采用高电压，因而离子能量更大，使得薄膜与基片结合力很好，离子电流更大，使得DLC膜的沉积速度更快。离子束技术的主要优点在于可沉积薄膜以及多层结构，工艺控制精度可达0.5微米，并可将工艺过程中的颗粒污染所带来的缺陷降至*小。